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Carl Zeiss領頭開發EUV微影技術專案

2012-8-6 16:53:12

德國的光學元件供應商Carl Zeiss,已於其他六家德國廠商與研究機構來合力進行名為ETIK14奈米解析度EUV投影光學的開發方案,以共同研發更先進的EUV微影技術。

 

Carl Zeiss組成的團隊目標是希望開發EUV微影技術的解析度至少達到14奈米並期望能於今年底前有第一個技術平台完成以實現到20奈米的架構製造

德國教育與研發部給予這個專案7百萬歐元的獎勵。

 

為了提高解析度,集團的合作夥伴目前正為EUV系統的關鍵模組研究新的製造技術;包括照明系統和投影光學系統。例如,一個高度靈活的光開關單元已設計提高系統性能,同時研究人員還開發出一種新穎的設計在投影鏡頭的反射鏡表面。


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